VENA系列自动匹配器用于真空镀膜、等离子刻蚀、等离子清洗、物理气象沉积,化学气象沉积,磁控溅射,以及太阳能制造设备PECVD等设备当中,主要功能是实现全自动匹配,解决了现在国内真空镀膜设备中的一个技术空缺;具有自动,快速,可靠,高效,准确,节省人力和时间等特点。可选的射频系统检测模块可实时检测出系统的正反功率、驻波比、射频信号峰值电压、电流、直流偏置电压等,从而使您能够发现并显著降低制程变化性。
优势
●性能安全可靠,长时间工作稳定
●实时反射功率测量与控制
●优化设计、安装、使用与维修十分简便
●传输效率高,运行噪音小
●屏蔽效果好
●可外接匹配控制盒,与其他射频功率发生器配合使用
特点
●加强了镀膜与刻蚀工艺的控制
●优化的匹配算法加速匹配时间
●最大限度地减少驻波比与反射功率
●严格的可靠性测试
使用参数:
匹配功率范围 | 0-500W |
工作频率: | 13.56MHZ |
正常工作反射功率 | <3W |
匹配时间 | <3S |
传输效率 | >90% |
匹配器电源 | AC220V/50-60HZ |
输入连接器 | N型 |
输出连接器 | UHF |
控制模式 | 手动/自动 |
可设预置点数 | 7 |
匹配阻抗范围 | 实部0-80Ω 虚部-j200-j200(可根据负载调节阻抗) |
匹配器尺寸 | 340X230X130 MM |
整机重量 | 5.5KG |
冷却方式 | 强制风冷 |